@techreport{oai:mie-u.repo.nii.ac.jp:00010121,
 author = {勝又, 英之 and KATSUMATA, Hideyuki},
 month = {May},
 note = {application/pdf, 硫酸セシウム存在下における水熱合成法により、規則的配列した酸化タングステンナノロッド薄膜をタングステン金属基板上に直接合成することに成功した。得られた酸化タングステンナノロッド薄膜は、XRD、SEM、TEM、HRTEM、DRS、XPSによって特徴づけられた。この酸化タングステンナノロッド薄膜の光触媒活性を評価したところ、酸化タングステンナノプレート薄膜や酸化チタンナノロッド薄膜よりも高い性能を有していた。また、光触媒反応を繰り返し行っても、活性の低下は確認されず優れた安定性を有していた。, Thin films containing aligned WO3 nanorods were grown directly onto a W metal plate via a hydrothermal reaction in the presence of Cs2SO4. The obtained WO3 nanorods thin films were characterized by XRD, SEM, TEM, HRTEM, DRS and XPS. The films exhibited a much higher photocatalytic activity than WO3 nanoplates and TiO2 thin films under visible light irradiation. Further, the films showed good stability during the photocatalytic reaction., 2012年度～2014年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書, 24510095},
 title = {反応サイト選択性コアシェル助触媒担持酸化タングステンナノチューブの創製},
 year = {2015}
}